EUDR ToolsБезплатни публични инструменти за вносители от ЕС
Библиотека за обхват по ХС/КН
Справочник за кодядрени реактори, котли, машини, апарати и механизми; части за тези машини или апарати

Apparatus for chemical vapour deposition on semiconductor wafers

Датиран по източник справочник за ХС/КН код 84198920, основанието му за обхват по EUDR, йерархията в КН, последиците за доказателствата и свързаните индексирани редове.

Вид справкаСправочен запис за обхват по ХС/КН
Решение за обхватаOut of scope
Последица за вносителяСамо справочна бележка
Година на КН2026
Справочен отговор

ХС/КН код 84198920 е извън обхват за подготовка по EUDR.

Apparatus for chemical vapour deposition on semiconductor wafers Индексираният двигател за обхват връща Out of scope за този код. No Annex I scope match was found for this indexed CN code.

Основание за обхвата

Защо тази справочна страница дава този отговор.

Описание на кода
Apparatus for chemical vapour deposition on semiconductor wafers
Основание в Приложение I
Няма пряк запис в Приложение I
Основание от източника
Regulation (EU) 2023/1115 Annex I and CN 2026 index
Йерархия на КН

Родителски, дъщерни и близки редове.

Изгледът в библиотеката е за справочна навигация. Използвайте проверката, когато искате да изпълните друг код като действие.

84ядрени реактори, котли, машини, апарати и механизми; части за тези машини или апаратиout8419machinery, plant or laboratory equipment whether or not electrically heated (excl. furnaces, ovens and other equipment of heading 8514), for the treatment of materials by a process involving a change of temperature such as heating, cooking, roasting, distilling, rectifying, sterilising, pasteurising, steaming, drying, evaporating, vaporising, condensing or cooling (excl. those used for domestic purposes); instantaneous or storage water heaters, non-electric; parts thereofout841989machinery, plant or laboratory equipment, whether or not electrically heated, for the treatment of materials by a process involving a change of temperature such as heating, cooking, roasting, sterilising, pasteurising, steaming, evaporating, vaporising, condensing or cooling, n.e.s. (excl. machinery used for domestic purposes and furnaces, ovens and other equipment of heading 8514)out84198910cooling towers and similar plant for direct cooling (without a separating wall) by means of recirculated waterout84198915apparatus for rapid heating of semiconductor wafersout84198925apparatus for physical vapour deposition by electronic beam or evaporation on semiconductor wafersout84198927apparatus for chemical vapour deposition on lcd substratesout84198930vacuum-vapour plant for the deposition of metalout84198980machinery, plant or laboratory equipment, whether or not electrically heated, for treatment of materials by a process involving change of temperature e.g. heating, cooking, roasting, distilling, rectifying, sterilizing, pasteurizing, steaming, drying, evaporating, vaporizing, condensing or cooling, (excl. machinery or plant of a kind used for domestic purposes), (excl. 8419.11-00 to 8419.89-30)out
Модел на доказателствата

Какво означава това за подготовката.

Този ред не е пряк спусък за събиране на доказателства в текущия резултат за обхвата.

Метаданни на източника
Нужен ви е бърз изглед за действие?Изпълнете същия код в проверката на обхват по ХС.
Отворете резултата от инструмента
84198920 — справочник за обхват по ХС/КН на EUDR | EUDR Tools