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HS-/KN-Geltungsbereichs-Bibliothek
Code-Referenzkernreaktoren, kessel, maschinen, apparate und mechanische geräte; teile davon

Apparatus for rapid heating of semiconductor wafers

Quellendatierte Referenz für den HS-/KN-Code 84198915: EUDR-Geltungsbereichsgrundlage, KN-Hierarchie, Auswirkungen auf die Nachweise und verwandte indexierte Zeilen.

ReferenztypHS-/KN-Geltungsbereichseintrag
Geltungsbereichs-EntscheidungOut of scope
Bedeutung für ImporteureNur Referenzhinweis
KN-Jahr2026
Referenzantwort

HS-/KN-Code 84198915 ist für die EUDR-Vorbereitung außerhalb des Geltungsbereichs.

Apparatus for rapid heating of semiconductor wafers Die indexierte Scope-Engine liefert für diesen Code das Ergebnis Out of scope. No Annex I scope match was found for this indexed CN code.

Geltungsbereichsgrundlage

Warum diese Referenzseite diese Antwort gibt.

Code-Beschreibung
Apparatus for rapid heating of semiconductor wafers
Anhang-I-Grundlage
Kein direkter Anhang-I-Eintrag
Quellengrundlage
Regulation (EU) 2023/1115 Annex I and CN 2026 index
KN-Hierarchie

Übergeordnete, untergeordnete und benachbarte Zeilen.

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84kernreaktoren, kessel, maschinen, apparate und mechanische geräte; teile davonout8419machinery, plant or laboratory equipment whether or not electrically heated (excl. furnaces, ovens and other equipment of heading 8514), for the treatment of materials by a process involving a change of temperature such as heating, cooking, roasting, distilling, rectifying, sterilising, pasteurising, steaming, drying, evaporating, vaporising, condensing or cooling (excl. those used for domestic purposes); instantaneous or storage water heaters, non-electric; parts thereofout841989machinery, plant or laboratory equipment, whether or not electrically heated, for the treatment of materials by a process involving a change of temperature such as heating, cooking, roasting, sterilising, pasteurising, steaming, evaporating, vaporising, condensing or cooling, n.e.s. (excl. machinery used for domestic purposes and furnaces, ovens and other equipment of heading 8514)out84198910cooling towers and similar plant for direct cooling (without a separating wall) by means of recirculated waterout84198920apparatus for chemical vapour deposition on semiconductor wafersout84198925apparatus for physical vapour deposition by electronic beam or evaporation on semiconductor wafersout84198927apparatus for chemical vapour deposition on lcd substratesout84198930vacuum-vapour plant for the deposition of metalout84198980machinery, plant or laboratory equipment, whether or not electrically heated, for treatment of materials by a process involving change of temperature e.g. heating, cooking, roasting, distilling, rectifying, sterilizing, pasteurizing, steaming, drying, evaporating, vaporizing, condensing or cooling, (excl. machinery or plant of a kind used for domestic purposes), (excl. 8419.11-00 to 8419.89-30)out
Nachweismuster

Was das für die Vorbereitung bedeutet.

Diese Zeile ist im aktuellen Geltungsbereichs-Ergebnis kein direkter Auslöser für die Nachweiserhebung.

Quellen-Metadaten
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84198915 EUDR-HS-/KN-Geltungsbereichsreferenz | EUDR Tools