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HS-/KN-Geltungsbereichs-Bibliothek
Code-Referenzkernreaktoren, kessel, maschinen, apparate und mechanische geräte; teile davon

Parts and accessories for machine tools for working any material by removal of material operated by laser or other light or photon beam processes of a kind used in the manufacture of semiconductor wafers or devices, for apparatus for dry-etching patterns on semiconductor materials, for focused ion beam milling machines for producing or repairing masks and reticles for patterns on semiconductor devices and for machine tools for stripping or cleaning semiconductor wafers, n.e.s.

Quellendatierte Referenz für den HS-/KN-Code 84669315: EUDR-Geltungsbereichsgrundlage, KN-Hierarchie, Auswirkungen auf die Nachweise und verwandte indexierte Zeilen.

ReferenztypHS-/KN-Geltungsbereichseintrag
Geltungsbereichs-EntscheidungOut of scope
Bedeutung für ImporteureNur Referenzhinweis
KN-Jahr2026
Referenzantwort

HS-/KN-Code 84669315 ist für die EUDR-Vorbereitung außerhalb des Geltungsbereichs.

Parts and accessories for machine tools for working any material by removal of material operated by laser or other light or photon beam processes of a kind used in the manufacture of semiconductor wafers or devices, for apparatus for dry-etching patterns on semiconductor materials, for focused ion beam milling machines for producing or repairing masks and reticles for patterns on semiconductor devices and for machine tools for stripping or cleaning semiconductor wafers, n.e.s. Die indexierte Scope-Engine liefert für diesen Code das Ergebnis Out of scope. No Annex I scope match was found for this indexed CN code.

Geltungsbereichsgrundlage

Warum diese Referenzseite diese Antwort gibt.

Code-Beschreibung
Parts and accessories for machine tools for working any material by removal of material operated by laser or other light or photon beam processes of a kind used in the manufacture of semiconductor wafers or devices, for apparatus for dry-etching patterns on semiconductor materials, for focused ion beam milling machines for producing or repairing masks and reticles for patterns on semiconductor devices and for machine tools for stripping or cleaning semiconductor wafers, n.e.s.
Anhang-I-Grundlage
Kein direkter Anhang-I-Eintrag
Quellengrundlage
Regulation (EU) 2023/1115 Annex I and CN 2026 index
KN-Hierarchie

Übergeordnete, untergeordnete und benachbarte Zeilen.

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Nachweismuster

Was das für die Vorbereitung bedeutet.

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Quellen-Metadaten
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84669315 EUDR-HS-/KN-Geltungsbereichsreferenz | EUDR Tools