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HS-/KN-Geltungsbereichs-Bibliothek
Code-Referenzelektrische maschinen, apparate, geräte und andere elektrotechnische waren, teile davon; tonaufnahme- oder tonwiedergabegeräte, bild- und tonaufzeichnungs- oder -wiedergabegeräte, für das fernsehen, teile und zubehör für diese geräte

Resistance heated industrial or laboratory furnaces and ovens (excl. drying ovens)

Quellendatierte Referenz für den HS-/KN-Code 851410: EUDR-Geltungsbereichsgrundlage, KN-Hierarchie, Auswirkungen auf die Nachweise und verwandte indexierte Zeilen.

ReferenztypHS-/KN-Geltungsbereichseintrag
Geltungsbereichs-EntscheidungOut of scope
Bedeutung für ImporteureNur Referenzhinweis
KN-Jahr2026
Referenzantwort

HS-/KN-Code 851410 ist für die EUDR-Vorbereitung außerhalb des Geltungsbereichs.

Resistance heated industrial or laboratory furnaces and ovens (excl. drying ovens) Die indexierte Scope-Engine liefert für diesen Code das Ergebnis Out of scope. No Annex I scope match was found for this indexed CN code.

Geltungsbereichsgrundlage

Warum diese Referenzseite diese Antwort gibt.

Code-Beschreibung
Resistance heated industrial or laboratory furnaces and ovens (excl. drying ovens)
Anhang-I-Grundlage
Kein direkter Anhang-I-Eintrag
Quellengrundlage
Regulation (EU) 2023/1115 Annex I and CN 2026 index
KN-Hierarchie

Übergeordnete, untergeordnete und benachbarte Zeilen.

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85elektrische maschinen, apparate, geräte und andere elektrotechnische waren, teile davon; tonaufnahme- oder tonwiedergabegeräte, bild- und tonaufzeichnungs- oder -wiedergabegeräte, für das fernsehen, teile und zubehör für diese geräteout8514industrial or laboratory electric furnaces and ovens, incl. those functioning by induction or dielectric loss; other industrial or laboratory equipment for the heat treatment of materials by induction or dielectric loss; parts thereofout85141005industrial and laboratory furnaces and ovens, resistance heated, for the manufacture of semiconductor devices on semiconductor wafersout85141010resistance heated bakery and biscuit ovensout85141080industrial and laboratory furnaces and ovens, resistance heated (other than for the manufacture of semiconductor devices on semiconductor wafers)out85141090industrial and laboratory furnaces and ovens, resistance heated (other than drying ovens and baking ovens for bakeries, and biscuit ovens)out85141091resistance heated, industrial or laboratory furnaces and ovens, of a weight =< 50 kg (excl. drying ovens and bakery and biscuit ovens)out85141099resistance heated industrial or laboratory furnaces and ovens, of a weight > 50 kg (excl. drying ovens and bakery and biscuit ovens)out851411hot isostatic pressesout851419industrial and laboratory furnaces and ovens, resistance heated (excl. hot isostatic presses, and for the manufacture of semiconductor devices on semiconductor wafers)out851420furnaces and ovens functioning by induction or dielectric lossout851430electric industrial or laboratory furnaces and ovens (excl. resistance heated, induction, dielectric and drying furnaces and ovens)out851431electron beam furnacesout851432plasma and vacuum arc furnacesout
Nachweismuster

Was das für die Vorbereitung bedeutet.

Diese Zeile ist im aktuellen Geltungsbereichs-Ergebnis kein direkter Auslöser für die Nachweiserhebung.

Quellen-Metadaten
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851410 EUDR-HS-/KN-Geltungsbereichsreferenz | EUDR Tools