Απάντηση αναφοράς

Ο κωδικός ΕΣ/ΣΟ 84198915 είναι εκτός πεδίου εφαρμογής για την προετοιμασία EUDR.

Apparatus for rapid heating of semiconductor wafers Η ευρετηριασμένη μηχανή πεδίου εφαρμογής επιστρέφει Out of scope για αυτόν τον κωδικό. No Annex I scope match was found for this indexed CN code.

Βάση πεδίου εφαρμογής

Γιατί αυτή η σελίδα αναφοράς δίνει αυτή την απάντηση.

Περιγραφή κωδικού: Apparatus for rapid heating of semiconductor wafers
Βάση παραρτήματος I: Καμία άμεση καταχώριση στο παράρτημα I
Βάση πηγής: Regulation (EU) 2023/1115 Annex I and CN 2026 index

Ιεραρχία ΣΟ

Γονικές, θυγατρικές και γειτονικές γραμμές.

Η προβολή βιβλιοθήκης προορίζεται για πλοήγηση αναφοράς. Χρησιμοποιήστε τον ελεγκτή όταν θέλετε να εκτελέσετε έναν άλλο κωδικό ως ενέργεια.

84πυρηνικοι αντιδραστηρες, λεβητες, μηχανες, συσκευες και μηχανικες επινοησεις. μερη αυτων των μηχανων ή συσκευωνout8419machinery, plant or laboratory equipment whether or not electrically heated (excl. furnaces, ovens and other equipment of heading 8514), for the treatment of materials by a process involving a change of temperature such as heating, cooking, roasting, distilling, rectifying, sterilising, pasteurising, steaming, drying, evaporating, vaporising, condensing or cooling (excl. those used for domestic purposes); instantaneous or storage water heaters, non-electric; parts thereofout 841989machinery, plant or laboratory equipment, whether or not electrically heated, for the treatment of materials by a process involving a change of temperature such as heating, cooking, roasting, sterilising, pasteurising, steaming, evaporating, vaporising, condensing or cooling, n.e.s. (excl. machinery used for domestic purposes and furnaces, ovens and other equipment of heading 8514)out84198910cooling towers and similar plant for direct cooling (without a separating wall) by means of recirculated waterout 84198920apparatus for chemical vapour deposition on semiconductor wafersout 84198925apparatus for physical vapour deposition by electronic beam or evaporation on semiconductor wafersout 84198927apparatus for chemical vapour deposition on lcd substratesout 84198930vacuum-vapour plant for the deposition of metalout 84198980machinery, plant or laboratory equipment, whether or not electrically heated, for treatment of materials by a process involving change of temperature e.g. heating, cooking, roasting, distilling, rectifying, sterilizing, pasteurizing, steaming, drying, evaporating, vaporizing, condensing or cooling, (excl. machinery or plant of a kind used for domestic purposes), (excl. 8419.11-00 to 8419.89-30)out

Μοτίβο αποδεικτικών στοιχείων

Τι σημαίνει αυτό για την προετοιμασία.

Αυτή η γραμμή δεν ενεργοποιεί άμεσα τη συλλογή αποδεικτικών στοιχείων στο τρέχον αποτέλεσμα πεδίου εφαρμογής.

Μεταδεδομένα πηγής