Απάντηση αναφοράς

Ο κωδικός ΕΣ/ΣΟ 84199020 είναι εκτός πεδίου εφαρμογής για την προετοιμασία EUDR.

Parts for sterilizers of subheading 8419.20.00, n.e.s. Η ευρετηριασμένη μηχανή πεδίου εφαρμογής επιστρέφει Out of scope για αυτόν τον κωδικό. No Annex I scope match was found for this indexed CN code.

Βάση πεδίου εφαρμογής

Γιατί αυτή η σελίδα αναφοράς δίνει αυτή την απάντηση.

Περιγραφή κωδικού: Parts for sterilizers of subheading 8419.20.00, n.e.s.
Βάση παραρτήματος I: Καμία άμεση καταχώριση στο παράρτημα I
Βάση πηγής: Regulation (EU) 2023/1115 Annex I and CN 2026 index

Ιεραρχία ΣΟ

Γονικές, θυγατρικές και γειτονικές γραμμές.

Η προβολή βιβλιοθήκης προορίζεται για πλοήγηση αναφοράς. Χρησιμοποιήστε τον ελεγκτή όταν θέλετε να εκτελέσετε έναν άλλο κωδικό ως ενέργεια.

84πυρηνικοι αντιδραστηρες, λεβητες, μηχανες, συσκευες και μηχανικες επινοησεις. μερη αυτων των μηχανων ή συσκευωνout8419machinery, plant or laboratory equipment whether or not electrically heated (excl. furnaces, ovens and other equipment of heading 8514), for the treatment of materials by a process involving a change of temperature such as heating, cooking, roasting, distilling, rectifying, sterilising, pasteurising, steaming, drying, evaporating, vaporising, condensing or cooling (excl. those used for domestic purposes); instantaneous or storage water heaters, non-electric; parts thereofout 841990parts of machinery, plant and laboratory equipment, whether or not electrically heated, for the treatment of materials by a process involving a change of temperature, and of non-electric instantaneous and storage water heaters, n.e.s.out 84199010parts of heat-exchange units, for use in civil aircraft, n.e.s.out 84199015parts of medical, surgical or laboratory sterilizers, n.e.s.out 84199025parts of medical, surgical or laboratory sterilizers and of apparatus for rapid heating, for chemical vapour deposition and for physical vapour deposition by electronic beam or evaporation, on semiconductor wafers, n.e.s.out 84199030parts of apparatus for rapid heating, for deposition and for physical deposition by electronic beam or evaporation, on semiconductor wafers, n.e.s.out 84199050parts of apparatus for chemical vapour deposition on lcd substrates, n.e.s.out 84199080parts of machinery, plant and laboratory equipment, whether or not electrically heated, for the treatment of materials by a process involving a change of temperature, and of non-electric instantaneous and storage water heaters, n.e.s. (excl. of heat-exchange units for civil aircraft of subheading 8419.90.10, of sterilizers of subheading 8419.20.00, and of apparatus for rapid heating, for deposition and for physical deposition by electronic beam or evaporation on semiconductor wafers and for chemical vapour deposition on lcd substrates, and of furnaces, ovens and other equipment of heading 8514)(2002-2005);parts of machinery, plant and laboratory equipment, whether or non-electrically heated, for the treatment of materials by a process involving a change of temperature, and of non-electric instantaneous and storage water heaters, n.e.s. (excl. of heat exchange units for civil aircraft of subheading 8419.90.10, of sterilizers of subheading 8419.20.00, and of apparatus for rapid heating, for deposition and for physical deposition by electronic beam or evaporation on semiconductor wafers and for chemical vapour deposition on lcd substrates)(1998-2001)out

Μοτίβο αποδεικτικών στοιχείων

Τι σημαίνει αυτό για την προετοιμασία.

Αυτή η γραμμή δεν ενεργοποιεί άμεσα τη συλλογή αποδεικτικών στοιχείων στο τρέχον αποτέλεσμα πεδίου εφαρμογής.

Μεταδεδομένα πηγής