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Biblioteca di ambito SA/NC
Riferimento del codicereattori nucleari, caldaie, macchine, apparecchi e congegni meccanici; parti di queste macchine o apparecchi

Parts and accessories for machine tools for working any material by removal of material operated by laser or other light or photon beam processes of a kind used in the manufacture of semiconductor wafers or devices, for apparatus for dry-etching patterns on semiconductor materials, for focused ion beam milling machines for producing or repairing masks and reticles for patterns on semiconductor devices and for machine tools for stripping or cleaning semiconductor wafers, n.e.s.

Riferimento datato alla fonte per il codice SA/NC 84669315, la sua base di ambito EUDR, la gerarchia NC, le implicazioni sulle prove e le righe indicizzate correlate.

Tipo di riferimentoScheda di ambito SA/NC
Decisione di ambitoOut of scope
Implicazione per l'importatoreSolo nota di riferimento
Anno NC2026
Risposta di riferimento

Il codice SA/NC 84669315 risulta fuori ambito per la preparazione EUDR.

Parts and accessories for machine tools for working any material by removal of material operated by laser or other light or photon beam processes of a kind used in the manufacture of semiconductor wafers or devices, for apparatus for dry-etching patterns on semiconductor materials, for focused ion beam milling machines for producing or repairing masks and reticles for patterns on semiconductor devices and for machine tools for stripping or cleaning semiconductor wafers, n.e.s. Il motore di ambito indicizzato restituisce Out of scope per questo codice. No Annex I scope match was found for this indexed CN code.

Base di ambito

Perché questa pagina di riferimento dà quella risposta.

Descrizione del codice
Parts and accessories for machine tools for working any material by removal of material operated by laser or other light or photon beam processes of a kind used in the manufacture of semiconductor wafers or devices, for apparatus for dry-etching patterns on semiconductor materials, for focused ion beam milling machines for producing or repairing masks and reticles for patterns on semiconductor devices and for machine tools for stripping or cleaning semiconductor wafers, n.e.s.
Base nell'allegato I
Nessuna voce diretta nell'allegato I
Base della fonte
Regulation (EU) 2023/1115 Annex I and CN 2026 index
Gerarchia NC

Righe superiori, inferiori e vicine.

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Schema delle prove

Che cosa significa per la preparazione.

Questa riga non attiva direttamente la raccolta di prove nel risultato di ambito attuale.

Metadati delle fonti
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84669315 — riferimento di ambito SA/NC EUDR | EUDR Tools