EUDR ToolsNemokami vieši įrankiai ES importuotojams
HS/CN taikymo srities žinynas
Kodo informacijaskirsnis - branduoliniai reaktoriai, katilai, mašinos ir mechaniniai įrenginiai; jų dalys

Apparatus for chemical vapour deposition on semiconductor wafers

Šaltinio data pagrįsta informacija apie HS/CN kodą 84198920, jo EUDR taikymo srities pagrindą, CN hierarchiją, poveikį įrodymams ir susijusias indeksuotas eilutes.

Informacijos tipasHS/CN taikymo srities įrašas
Taikymo srities sprendimasOut of scope
Poveikis importuotojuiTik informacinė pastaba
CN metai2026
Informacinis atsakymas

HS/CN kodas 84198920 EUDR parengimui yra nepatenka į taikymo sritį.

Apparatus for chemical vapour deposition on semiconductor wafers Indeksuotas taikymo srities variklis šiam kodui grąžina Out of scope. No Annex I scope match was found for this indexed CN code.

Taikymo srities pagrindas

Kodėl šis informacinis puslapis pateikia tokį atsakymą.

Kodo aprašymas
Apparatus for chemical vapour deposition on semiconductor wafers
I priedo pagrindas
Nėra tiesioginio I priedo įrašo
Šaltinio pagrindas
Regulation (EU) 2023/1115 Annex I and CN 2026 index
CN hierarchija

Aukštesnio, žemesnio lygio ir gretimos eilutės.

Žinyno rodinys skirtas informacinei navigacijai. Norėdami patikrinti kitą kodą kaip veiksmą, naudokite tikrintuvą.

84skirsnis - branduoliniai reaktoriai, katilai, mašinos ir mechaniniai įrenginiai; jų dalysout8419machinery, plant or laboratory equipment whether or not electrically heated (excl. furnaces, ovens and other equipment of heading 8514), for the treatment of materials by a process involving a change of temperature such as heating, cooking, roasting, distilling, rectifying, sterilising, pasteurising, steaming, drying, evaporating, vaporising, condensing or cooling (excl. those used for domestic purposes); instantaneous or storage water heaters, non-electric; parts thereofout841989machinery, plant or laboratory equipment, whether or not electrically heated, for the treatment of materials by a process involving a change of temperature such as heating, cooking, roasting, sterilising, pasteurising, steaming, evaporating, vaporising, condensing or cooling, n.e.s. (excl. machinery used for domestic purposes and furnaces, ovens and other equipment of heading 8514)out84198910cooling towers and similar plant for direct cooling (without a separating wall) by means of recirculated waterout84198915apparatus for rapid heating of semiconductor wafersout84198925apparatus for physical vapour deposition by electronic beam or evaporation on semiconductor wafersout84198927apparatus for chemical vapour deposition on lcd substratesout84198930vacuum-vapour plant for the deposition of metalout84198980machinery, plant or laboratory equipment, whether or not electrically heated, for treatment of materials by a process involving change of temperature e.g. heating, cooking, roasting, distilling, rectifying, sterilizing, pasteurizing, steaming, drying, evaporating, vaporizing, condensing or cooling, (excl. machinery or plant of a kind used for domestic purposes), (excl. 8419.11-00 to 8419.89-30)out
Įrodymų modelis

Ką tai reiškia parengimui.

Ši eilutė dabartiniame taikymo srities rezultate tiesiogiai nesukelia įrodymų rinkimo.

Šaltinio metaduomenys
Reikia greito veiksmų rodinio?Patikrinkite šį patį kodą HS taikymo srities tikrintuve.
Atverti įrankio rezultatą
84198920 EUDR HS/CN taikymo srities žinynas | EUDR Tools