EUDR ToolsBezpłatne publiczne narzędzia dla importerów z UE
Biblioteka zakresu HS/CN
Referencja kodureaktory jądrowe, kotły, maszyny i urządzenia mechaniczne; ich części

Vacuum pumps of a kind used for the manufacture of semiconductors or solely or principally used for the manufacture of flat panel displays

Datowana źródłowo referencja dla kodu HS/CN 84141015: podstawa zakresu EUDR, hierarchia CN, konsekwencje dowodowe i powiązane zaindeksowane wiersze.

Typ referencjiRekord zakresu HS/CN
Decyzja o zakresieOut of scope
Konsekwencja dla importeraWyłącznie notatka referencyjna
Rok CN2026
Odpowiedź referencyjna

Kod HS/CN 84141015 jest poza zakresem na potrzeby przygotowania EUDR.

Vacuum pumps of a kind used for the manufacture of semiconductors or solely or principally used for the manufacture of flat panel displays Zaindeksowany silnik zakresu zwraca dla tego kodu wynik Out of scope. No Annex I scope match was found for this indexed CN code.

Podstawa zakresu

Dlaczego ta strona referencyjna daje taką odpowiedź.

Opis kodu
Vacuum pumps of a kind used for the manufacture of semiconductors or solely or principally used for the manufacture of flat panel displays
Podstawa w załączniku I
Brak bezpośredniej pozycji w załączniku I
Podstawa źródłowa
Regulation (EU) 2023/1115 Annex I and CN 2026 index
Hierarchia CN

Wiersze nadrzędne, podrzędne i sąsiednie.

Widok biblioteki służy do nawigacji referencyjnej. Użyj weryfikatora, gdy chcesz uruchomić inny kod jako działanie.

84reaktory jądrowe, kotły, maszyny i urządzenia mechaniczne; ich częściout8414air or vacuum pumps (excl. gas compound elevators and pneumatic elevators and conveyors); air or other gas compressors and fans; ventilating or recycling hoods incorporating a fan, whether or not fitted with filters; parts thereofout841410vacuum pumpsout84141010vacuum pumps of a kind used solely or principally for the manufacture of semiconductors or flat panel displays(2017-2017);vacuum pumps, for civil aircraft(1988-2005)out84141020vacuum pumps for use in semiconductor production, of a kind used only secondarily for it(2017-2017);vacuum pumps for use in semiconductor production(1998-2016)out84141025rotary piston vacuum pumps, sliding vane rotary pumps, molecular drag pumps and roots pumps (excl. pumps used in semiconductor or flat panel display production)(2017-2500);rotary piston vacuum pumps, sliding vane rotary pumps, molecular drag pumps and roots pumps(2006-2016)out84141030rotary piston vacuum pumps, sliding vane rotary pumps, molecular drag pumps and roots pumps (excl. those for civil aircraft of subheading 8414.10.10)out84141050diffusion pumps, cryopumps and adsorption pumps (excl. those for civil aircraft of subheading 8414.10.10)out84141080vacuum pumps (excl. those for civil aircraft of subheading 8414.10.10, vacuum pumps for use in semiconductor production, rotary piston vacuum pumps, sliding vane rotary pumps, molecular drag pumps and roots pumps, diffusion pumps, cryopumps and adsorption pumps)out
Wzorzec dowodowy

Co to oznacza dla przygotowania.

Ten wiersz nie uruchamia bezpośrednio zbierania dowodów w bieżącym wyniku zakresu.

Metadane źródeł
Potrzebujesz szybkiego widoku działania?Uruchom ten sam kod w weryfikatorze zakresu HS.
Otwórz wynik narzędzia
84141015 — referencja zakresu HS/CN w EUDR | EUDR Tools