EUDR ToolsBezpłatne publiczne narzędzia dla importerów z UE
Biblioteka zakresu HS/CN
Referencja kodureaktory jądrowe, kotły, maszyny i urządzenia mechaniczne; ich części

Apparatus for chemical vapour deposition on semiconductor wafers

Datowana źródłowo referencja dla kodu HS/CN 84198920: podstawa zakresu EUDR, hierarchia CN, konsekwencje dowodowe i powiązane zaindeksowane wiersze.

Typ referencjiRekord zakresu HS/CN
Decyzja o zakresieOut of scope
Konsekwencja dla importeraWyłącznie notatka referencyjna
Rok CN2026
Odpowiedź referencyjna

Kod HS/CN 84198920 jest poza zakresem na potrzeby przygotowania EUDR.

Apparatus for chemical vapour deposition on semiconductor wafers Zaindeksowany silnik zakresu zwraca dla tego kodu wynik Out of scope. No Annex I scope match was found for this indexed CN code.

Podstawa zakresu

Dlaczego ta strona referencyjna daje taką odpowiedź.

Opis kodu
Apparatus for chemical vapour deposition on semiconductor wafers
Podstawa w załączniku I
Brak bezpośredniej pozycji w załączniku I
Podstawa źródłowa
Regulation (EU) 2023/1115 Annex I and CN 2026 index
Hierarchia CN

Wiersze nadrzędne, podrzędne i sąsiednie.

Widok biblioteki służy do nawigacji referencyjnej. Użyj weryfikatora, gdy chcesz uruchomić inny kod jako działanie.

84reaktory jądrowe, kotły, maszyny i urządzenia mechaniczne; ich częściout8419machinery, plant or laboratory equipment whether or not electrically heated (excl. furnaces, ovens and other equipment of heading 8514), for the treatment of materials by a process involving a change of temperature such as heating, cooking, roasting, distilling, rectifying, sterilising, pasteurising, steaming, drying, evaporating, vaporising, condensing or cooling (excl. those used for domestic purposes); instantaneous or storage water heaters, non-electric; parts thereofout841989machinery, plant or laboratory equipment, whether or not electrically heated, for the treatment of materials by a process involving a change of temperature such as heating, cooking, roasting, sterilising, pasteurising, steaming, evaporating, vaporising, condensing or cooling, n.e.s. (excl. machinery used for domestic purposes and furnaces, ovens and other equipment of heading 8514)out84198910cooling towers and similar plant for direct cooling (without a separating wall) by means of recirculated waterout84198915apparatus for rapid heating of semiconductor wafersout84198925apparatus for physical vapour deposition by electronic beam or evaporation on semiconductor wafersout84198927apparatus for chemical vapour deposition on lcd substratesout84198930vacuum-vapour plant for the deposition of metalout84198980machinery, plant or laboratory equipment, whether or not electrically heated, for treatment of materials by a process involving change of temperature e.g. heating, cooking, roasting, distilling, rectifying, sterilizing, pasteurizing, steaming, drying, evaporating, vaporizing, condensing or cooling, (excl. machinery or plant of a kind used for domestic purposes), (excl. 8419.11-00 to 8419.89-30)out
Wzorzec dowodowy

Co to oznacza dla przygotowania.

Ten wiersz nie uruchamia bezpośrednio zbierania dowodów w bieżącym wyniku zakresu.

Metadane źródeł
Potrzebujesz szybkiego widoku działania?Uruchom ten sam kod w weryfikatorze zakresu HS.
Otwórz wynik narzędzia
84198920 — referencja zakresu HS/CN w EUDR | EUDR Tools