EUDR ToolsBezpłatne publiczne narzędzia dla importerów z UE
Biblioteka zakresu HS/CN
Referencja kodureaktory jądrowe, kotły, maszyny i urządzenia mechaniczne; ich części

Parts of medical, surgical or laboratory sterilizers and of apparatus for rapid heating, for chemical vapour deposition and for physical vapour deposition by electronic beam or evaporation, on semiconductor wafers, n.e.s.

Datowana źródłowo referencja dla kodu HS/CN 84199025: podstawa zakresu EUDR, hierarchia CN, konsekwencje dowodowe i powiązane zaindeksowane wiersze.

Typ referencjiRekord zakresu HS/CN
Decyzja o zakresieOut of scope
Konsekwencja dla importeraWyłącznie notatka referencyjna
Rok CN2026
Odpowiedź referencyjna

Kod HS/CN 84199025 jest poza zakresem na potrzeby przygotowania EUDR.

Parts of medical, surgical or laboratory sterilizers and of apparatus for rapid heating, for chemical vapour deposition and for physical vapour deposition by electronic beam or evaporation, on semiconductor wafers, n.e.s. Zaindeksowany silnik zakresu zwraca dla tego kodu wynik Out of scope. No Annex I scope match was found for this indexed CN code.

Podstawa zakresu

Dlaczego ta strona referencyjna daje taką odpowiedź.

Opis kodu
Parts of medical, surgical or laboratory sterilizers and of apparatus for rapid heating, for chemical vapour deposition and for physical vapour deposition by electronic beam or evaporation, on semiconductor wafers, n.e.s.
Podstawa w załączniku I
Brak bezpośredniej pozycji w załączniku I
Podstawa źródłowa
Regulation (EU) 2023/1115 Annex I and CN 2026 index
Hierarchia CN

Wiersze nadrzędne, podrzędne i sąsiednie.

Widok biblioteki służy do nawigacji referencyjnej. Użyj weryfikatora, gdy chcesz uruchomić inny kod jako działanie.

84reaktory jądrowe, kotły, maszyny i urządzenia mechaniczne; ich częściout8419machinery, plant or laboratory equipment whether or not electrically heated (excl. furnaces, ovens and other equipment of heading 8514), for the treatment of materials by a process involving a change of temperature such as heating, cooking, roasting, distilling, rectifying, sterilising, pasteurising, steaming, drying, evaporating, vaporising, condensing or cooling (excl. those used for domestic purposes); instantaneous or storage water heaters, non-electric; parts thereofout841990parts of machinery, plant and laboratory equipment, whether or not electrically heated, for the treatment of materials by a process involving a change of temperature, and of non-electric instantaneous and storage water heaters, n.e.s.out84199010parts of heat-exchange units, for use in civil aircraft, n.e.s.out84199015parts of medical, surgical or laboratory sterilizers, n.e.s.out84199020parts for sterilizers of subheading 8419.20.00, n.e.s.out84199030parts of apparatus for rapid heating, for deposition and for physical deposition by electronic beam or evaporation, on semiconductor wafers, n.e.s.out84199050parts of apparatus for chemical vapour deposition on lcd substrates, n.e.s.out84199080parts of machinery, plant and laboratory equipment, whether or not electrically heated, for the treatment of materials by a process involving a change of temperature, and of non-electric instantaneous and storage water heaters, n.e.s. (excl. of heat-exchange units for civil aircraft of subheading 8419.90.10, of sterilizers of subheading 8419.20.00, and of apparatus for rapid heating, for deposition and for physical deposition by electronic beam or evaporation on semiconductor wafers and for chemical vapour deposition on lcd substrates, and of furnaces, ovens and other equipment of heading 8514)(2002-2005);parts of machinery, plant and laboratory equipment, whether or non-electrically heated, for the treatment of materials by a process involving a change of temperature, and of non-electric instantaneous and storage water heaters, n.e.s. (excl. of heat exchange units for civil aircraft of subheading 8419.90.10, of sterilizers of subheading 8419.20.00, and of apparatus for rapid heating, for deposition and for physical deposition by electronic beam or evaporation on semiconductor wafers and for chemical vapour deposition on lcd substrates)(1998-2001)out
Wzorzec dowodowy

Co to oznacza dla przygotowania.

Ten wiersz nie uruchamia bezpośrednio zbierania dowodów w bieżącym wyniku zakresu.

Metadane źródeł
Potrzebujesz szybkiego widoku działania?Uruchom ten sam kod w weryfikatorze zakresu HS.
Otwórz wynik narzędzia
84199025 — referencja zakresu HS/CN w EUDR | EUDR Tools