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Bibliothèque du champ d'application SH/NC
Référence de codereacteurs nucleaires, chaudieres, machines, appareils et engins mecaniques; parties de ces machines ou appareils

Apparatus for rapid heating of semiconductor wafers

Référence datée à la source pour le code SH/NC 84198915: sa base de champ d'application RDUE, sa hiérarchie NC, ses implications en matière de preuves et les lignes indexées liées.

Type de référenceFiche de champ d'application SH/NC
Décision de champ d'applicationOut of scope
Implication pour l'importateurNote de référence uniquement
Année NC2026
Réponse de référence

Le code SH/NC 84198915 est hors champ d'application pour la préparation RDUE.

Apparatus for rapid heating of semiconductor wafers Le moteur de champ d'application indexé renvoie Out of scope pour ce code. No Annex I scope match was found for this indexed CN code.

Base du champ d'application

Pourquoi cette page de référence donne cette réponse.

Description du code
Apparatus for rapid heating of semiconductor wafers
Base annexe I
Aucune entrée directe à l'annexe I
Base de la source
Regulation (EU) 2023/1115 Annex I and CN 2026 index
Hiérarchie NC

Lignes parentes, filles et voisines.

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84reacteurs nucleaires, chaudieres, machines, appareils et engins mecaniques; parties de ces machines ou appareilsout8419machinery, plant or laboratory equipment whether or not electrically heated (excl. furnaces, ovens and other equipment of heading 8514), for the treatment of materials by a process involving a change of temperature such as heating, cooking, roasting, distilling, rectifying, sterilising, pasteurising, steaming, drying, evaporating, vaporising, condensing or cooling (excl. those used for domestic purposes); instantaneous or storage water heaters, non-electric; parts thereofout841989machinery, plant or laboratory equipment, whether or not electrically heated, for the treatment of materials by a process involving a change of temperature such as heating, cooking, roasting, sterilising, pasteurising, steaming, evaporating, vaporising, condensing or cooling, n.e.s. (excl. machinery used for domestic purposes and furnaces, ovens and other equipment of heading 8514)out84198910cooling towers and similar plant for direct cooling (without a separating wall) by means of recirculated waterout84198920apparatus for chemical vapour deposition on semiconductor wafersout84198925apparatus for physical vapour deposition by electronic beam or evaporation on semiconductor wafersout84198927apparatus for chemical vapour deposition on lcd substratesout84198930vacuum-vapour plant for the deposition of metalout84198980machinery, plant or laboratory equipment, whether or not electrically heated, for treatment of materials by a process involving change of temperature e.g. heating, cooking, roasting, distilling, rectifying, sterilizing, pasteurizing, steaming, drying, evaporating, vaporizing, condensing or cooling, (excl. machinery or plant of a kind used for domestic purposes), (excl. 8419.11-00 to 8419.89-30)out
Schéma de preuves

Ce que cela signifie pour la préparation.

Cette ligne ne déclenche pas directement de collecte de preuves dans le résultat de champ d'application actuel.

Métadonnées sources
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84198915 — Référence de champ d'application SH/NC RDUE | EUDR Tools