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Bibliothèque du champ d'application SH/NC
Référence de codereacteurs nucleaires, chaudieres, machines, appareils et engins mecaniques; parties de ces machines ou appareils

Vacuum pumps of a kind used for the manufacture of semiconductors or solely or principally used for the manufacture of flat panel displays

Référence datée à la source pour le code SH/NC 84141015: sa base de champ d'application RDUE, sa hiérarchie NC, ses implications en matière de preuves et les lignes indexées liées.

Type de référenceFiche de champ d'application SH/NC
Décision de champ d'applicationOut of scope
Implication pour l'importateurNote de référence uniquement
Année NC2026
Réponse de référence

Le code SH/NC 84141015 est hors champ d'application pour la préparation RDUE.

Vacuum pumps of a kind used for the manufacture of semiconductors or solely or principally used for the manufacture of flat panel displays Le moteur de champ d'application indexé renvoie Out of scope pour ce code. No Annex I scope match was found for this indexed CN code.

Base du champ d'application

Pourquoi cette page de référence donne cette réponse.

Description du code
Vacuum pumps of a kind used for the manufacture of semiconductors or solely or principally used for the manufacture of flat panel displays
Base annexe I
Aucune entrée directe à l'annexe I
Base de la source
Regulation (EU) 2023/1115 Annex I and CN 2026 index
Hiérarchie NC

Lignes parentes, filles et voisines.

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84reacteurs nucleaires, chaudieres, machines, appareils et engins mecaniques; parties de ces machines ou appareilsout8414air or vacuum pumps (excl. gas compound elevators and pneumatic elevators and conveyors); air or other gas compressors and fans; ventilating or recycling hoods incorporating a fan, whether or not fitted with filters; parts thereofout841410vacuum pumpsout84141010vacuum pumps of a kind used solely or principally for the manufacture of semiconductors or flat panel displays(2017-2017);vacuum pumps, for civil aircraft(1988-2005)out84141020vacuum pumps for use in semiconductor production, of a kind used only secondarily for it(2017-2017);vacuum pumps for use in semiconductor production(1998-2016)out84141025rotary piston vacuum pumps, sliding vane rotary pumps, molecular drag pumps and roots pumps (excl. pumps used in semiconductor or flat panel display production)(2017-2500);rotary piston vacuum pumps, sliding vane rotary pumps, molecular drag pumps and roots pumps(2006-2016)out84141030rotary piston vacuum pumps, sliding vane rotary pumps, molecular drag pumps and roots pumps (excl. those for civil aircraft of subheading 8414.10.10)out84141050diffusion pumps, cryopumps and adsorption pumps (excl. those for civil aircraft of subheading 8414.10.10)out84141080vacuum pumps (excl. those for civil aircraft of subheading 8414.10.10, vacuum pumps for use in semiconductor production, rotary piston vacuum pumps, sliding vane rotary pumps, molecular drag pumps and roots pumps, diffusion pumps, cryopumps and adsorption pumps)out
Schéma de preuves

Ce que cela signifie pour la préparation.

Cette ligne ne déclenche pas directement de collecte de preuves dans le résultat de champ d'application actuel.

Métadonnées sources
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84141015 — Référence de champ d'application SH/NC RDUE | EUDR Tools