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Bibliothèque du champ d'application SH/NC
Référence de codemachines, appareils et materiels electriques et leurs parties; appareils d'enregistrement ou de reproduction du son, appareils d'enregistrement ou de reproduction des images et du son en television, et parties et accessoires de ces appareils

Resistance heated industrial or laboratory furnaces and ovens (excl. drying ovens)

Référence datée à la source pour le code SH/NC 851410: sa base de champ d'application RDUE, sa hiérarchie NC, ses implications en matière de preuves et les lignes indexées liées.

Type de référenceFiche de champ d'application SH/NC
Décision de champ d'applicationOut of scope
Implication pour l'importateurNote de référence uniquement
Année NC2026
Réponse de référence

Le code SH/NC 851410 est hors champ d'application pour la préparation RDUE.

Resistance heated industrial or laboratory furnaces and ovens (excl. drying ovens) Le moteur de champ d'application indexé renvoie Out of scope pour ce code. No Annex I scope match was found for this indexed CN code.

Base du champ d'application

Pourquoi cette page de référence donne cette réponse.

Description du code
Resistance heated industrial or laboratory furnaces and ovens (excl. drying ovens)
Base annexe I
Aucune entrée directe à l'annexe I
Base de la source
Regulation (EU) 2023/1115 Annex I and CN 2026 index
Hiérarchie NC

Lignes parentes, filles et voisines.

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85machines, appareils et materiels electriques et leurs parties; appareils d'enregistrement ou de reproduction du son, appareils d'enregistrement ou de reproduction des images et du son en television, et parties et accessoires de ces appareilsout8514industrial or laboratory electric furnaces and ovens, incl. those functioning by induction or dielectric loss; other industrial or laboratory equipment for the heat treatment of materials by induction or dielectric loss; parts thereofout85141005industrial and laboratory furnaces and ovens, resistance heated, for the manufacture of semiconductor devices on semiconductor wafersout85141010resistance heated bakery and biscuit ovensout85141080industrial and laboratory furnaces and ovens, resistance heated (other than for the manufacture of semiconductor devices on semiconductor wafers)out85141090industrial and laboratory furnaces and ovens, resistance heated (other than drying ovens and baking ovens for bakeries, and biscuit ovens)out85141091resistance heated, industrial or laboratory furnaces and ovens, of a weight =< 50 kg (excl. drying ovens and bakery and biscuit ovens)out85141099resistance heated industrial or laboratory furnaces and ovens, of a weight > 50 kg (excl. drying ovens and bakery and biscuit ovens)out851411hot isostatic pressesout851419industrial and laboratory furnaces and ovens, resistance heated (excl. hot isostatic presses, and for the manufacture of semiconductor devices on semiconductor wafers)out851420furnaces and ovens functioning by induction or dielectric lossout851430electric industrial or laboratory furnaces and ovens (excl. resistance heated, induction, dielectric and drying furnaces and ovens)out851431electron beam furnacesout851432plasma and vacuum arc furnacesout
Schéma de preuves

Ce que cela signifie pour la préparation.

Cette ligne ne déclenche pas directement de collecte de preuves dans le résultat de champ d'application actuel.

Métadonnées sources
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851410 — Référence de champ d'application SH/NC RDUE | EUDR Tools