EUDR ToolsBezpłatne publiczne narzędzia dla importerów z UE
Biblioteka zakresu HS/CN
Referencja koduprodukty chemiczne różne

Doped silicon wafers of a thickness <=200μm, rectangular, whether or not with cut or rounded corners "photovoltaic wafers"

Datowana źródłowo referencja dla kodu HS/CN 38180011: podstawa zakresu EUDR, hierarchia CN, konsekwencje dowodowe i powiązane zaindeksowane wiersze.

Typ referencjiRekord zakresu HS/CN
Decyzja o zakresieOut of scope
Konsekwencja dla importeraWyłącznie notatka referencyjna
Rok CN2026
Odpowiedź referencyjna

Kod HS/CN 38180011 jest poza zakresem na potrzeby przygotowania EUDR.

Doped silicon wafers of a thickness <=200μm, rectangular, whether or not with cut or rounded corners "photovoltaic wafers" Zaindeksowany silnik zakresu zwraca dla tego kodu wynik Out of scope. No Annex I scope match was found for this indexed CN code.

Podstawa zakresu

Dlaczego ta strona referencyjna daje taką odpowiedź.

Opis kodu
Doped silicon wafers of a thickness <=200μm, rectangular, whether or not with cut or rounded corners "photovoltaic wafers"
Podstawa w załączniku I
Brak bezpośredniej pozycji w załączniku I
Podstawa źródłowa
Regulation (EU) 2023/1115 Annex I and CN 2026 index
Hierarchia CN

Wiersze nadrzędne, podrzędne i sąsiednie.

Widok biblioteki służy do nawigacji referencyjnej. Użyj weryfikatora, gdy chcesz uruchomić inny kod jako działanie.

38produkty chemiczne różnenarrower3818chemical elements and compounds doped for use in electronics, in the form of discs, wafers, cylinders, rods or similar forms, or cut into discs, wafers or similar forms, whether or not polished or with a uniform epitaxial coating (excl. elements that have been further processed, e.g. by selective diffusion)out381800chemical elements and compounds doped for use in electronics, in the form of discs, wafers, cylinders, rods or similar forms, or cut into discs, wafers or similar forms, whether or not polished or with a uniform epitaxial coating (excl. elements that have been further processed, e.g. by selective diffusion)out38180010silicon doped for use in electronics, in the form of discs, wafers, cylinders, rods or similar forms, whether or not polished or with a uniform epitaxial coating (excl. elements that have been further processed, e.g. by selective diffusion)out38180019silicon doped for use in electronics, in the form of discs, wafers, cylinders, rods or similar forms, whether or not polished or with a uniform epitaxial coating (excl. elements that have been further processed, e.g. by selective diffusion, and "photovoltaic" rectangular wafers of a thickness <=200μm)out38180090chemical elements and compounds doped for use in electronics, in the form of discs, wafers, cylinders, rods or similar forms, or cut into discs, wafers or similar forms, whether or not polished or with a uniform epitaxial coating (excl. elements that have been further processed, e.g. by selective diffusion, and doped silicon)out
Wzorzec dowodowy

Co to oznacza dla przygotowania.

Ten wiersz nie uruchamia bezpośrednio zbierania dowodów w bieżącym wyniku zakresu.

Metadane źródeł
Potrzebujesz szybkiego widoku działania?Uruchom ten sam kod w weryfikatorze zakresu HS.
Otwórz wynik narzędzia
38180011 — referencja zakresu HS/CN w EUDR | EUDR Tools